ALD
Atomic Layer Deposition. Послойный рост (0.1 нм/цикл). High-k диэлектрики (HfO₂), медные барьеры. Конформность 100% на 3D структурах.
📖6 мин чтения📊Уровень 7📅19 февраля 2026 г.
🗺️ Mind Map
Загрузка карты...
❓Часто задаваемые вопросы
ALD — это тема о правилах, механизмах и практиках в своей области. Она помогает понять, как принимаются решения и к каким последствиям они приводят.